EKW-模擬版圖面試題答案

IC集成電路

1.        MOS（metal oxidesemiconductor金屬氧化物半導(dǎo)體），按制程可以分為哪幾種？筆試題

?    Pmos:在MOS制程技術(shù)中是最簡(jiǎn)單，所以被應(yīng)用的最早。是利用空穴來導(dǎo)電，速度較慢。

?    Nmos:利用電子來做傳導(dǎo)的工作，因?yàn)殡娮拥钠扑俣燃s為空穴的二至三倍，因此在相同的條件下，nMOS制程的電路可以工作得比pMOS快。

?    Cmos：同時(shí)包含了nMOS和pMOS，因此制程技術(shù)變得較為復(fù)雜。通常在CMOS電路中成對(duì)的包含nMOS和pMOS晶體管，在穩(wěn)態(tài)時(shí)只有一組晶體管能夠?qū)ǎ钥梢哉f沒有靜態(tài)功率消耗（statIC power）,是目前最省功率的一種電路，現(xiàn)今流行的技術(shù)之一。